磁控濺射技術 沉積的膜層均勻、致密、針孔少，純度高，附著力強，可以在低溫、低損傷的條件下實現高速沉積各種材料薄膜，已經成為當今真空香蕉精品视频中的一種成熟技術與工業化的生產方式。磁控濺射技術就是利用電磁場來控製真空腔體內氣體“異常輝光放電”中離子、電子的運動軌跡及分布狀況的濺射香蕉精品视频的工藝過程。

鍍金屬膜時，一般用氬氣作為工作氣體，它是惰性氣體，在真空狀態下加熱基片時不會發生氧化作用；

氧氣一般用於鍍非金屬膜，如TiO2，不必擔心鍍好膜後發生膜氧化現象；

氮氣是在換靶香蕉精品视频時往真空室衝入的氣體，讓真空室內壓強和大氣壓強保持相等，才能開蓋換靶鍍另一層膜。

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