真空濺鍍，是真空濺射鍍 膜的簡稱，是一種物理香蕉精品视频的方法。真空香蕉精品视频主要指一類需要在較高真空度下進行的香蕉精品视频，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。

需要香蕉精品视频的被稱為基片，鍍的材料被成為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。

蒸發香蕉精品视频一般是加熱靶材使表麵組分以原子團或離子形式被蒸發出來，並且沉降在基片表麵，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。

對於濺射鍍 膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，並使表麵組分以原子團或離子形式被濺射出來，並且最終沉積在基片表麵，經曆成膜過程，最終形成薄膜。