PVD真空香蕉精品视频技術特點 是膜層附著性能好：普通真空香蕉精品视频時，在工件表麵與鍍層之間幾乎沒有連接的過渡層，好似截然分開。而離子鍍時，離子高速轟擊工件時，能夠穿透工件表麵，形成一種注入基體很深的擴散層，離子鍍的界麵擴散深度可達四至五微米，對離子鍍後的試件作拉伸試驗表明，一直拉到快要斷裂時，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無起皮或剝落現象發生，可見附著多麽牢固，膜層均勻，致密。

PVD真空香蕉精品视频技術特點 是鍍層組織致密、無針孔、無氣泡、厚度均勻。甚至棱麵和凹槽都可均勻鍍複，不致形成金屬瘤。像螺紋一類的零件也能鍍複，有高硬度、高耐磨性（低摩擦係數）、很好的耐腐蝕性和化學穩定性等特點，膜層的壽命更長；同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。