你聽說過離子鍍嗎？真空香蕉精品视频香蕉视频污下载 中的真空離子鍍和普通離子鍍有什麽不一樣呢？接下來小編就簡要介紹下的這兩種離子鍍的區別吧！

蒸發物質的分子被電子碰撞電離後以離子形態沉積在固體表麵，稱為離子鍍，這種是普通的離子鍍。真空離子鍍是真空蒸發與陰極濺射技術的結合。這種離子鍍係統是將基體材料作為陰極，外殼作陽極，充入惰性氣體(如氬)以產生輝光放電。從蒸發源蒸發的分子通過等離子區時發生電離。正離子被負電壓加速打到基體材料表麵。未電離的中性原子也會沉積在基片或真空室壁表麵。電場對離化的蒸氣分子的加速作用(離子能量約幾百～幾千電子伏)和氬離子對基片的濺射作用，使膜層附著強度大大提高。離子鍍工藝綜合了蒸發(高沉積速率)與濺射(良好的膜層附著力)工藝的特點，並有很好的繞射性，可為形狀複雜的工件香蕉精品视频。

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